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英特尔或将退出先进制程代工业务

Intel Intel Foundry Services 14A
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英特尔最新财报显示,其晶圆代工业务正处于关键转折点。公司表示,如果无法吸引足够多的外部客户、实现规模化目标,将考虑暂停甚至终止 14A 及后续先进制程节点的开发与产能扩展。

作为半导体行业的先驱,英特尔自 1968 年成立以来就推动了集成电路技术的发展。联合创始人戈登·摩尔提出的“摩尔定律”——集成电路上的晶体管数量每两年翻一番,指引了产业数十年的演进。英特尔早期推出的 4004 微处理器引领了个人计算机时代,后来凭借 Pentium 和 Core 系列处理器在 x86 架构上占据主导地位。近年来,英特尔试图通过成立 Intel Foundry Services(IFS)切入晶圆代工市场,与台积电和三星竞争。

然而,IFS 业务发展缓慢。截至 2025 年第二季度,公司整体营收为 129 亿美元,同比持平,但净亏损达到 29 亿美元,主要来自重组和运营成本。IFS 部门营收约为 44 亿美元,其中大部分来自内部需求,外部客户贡献有限。尽管英特尔已投入数百亿美元用于建厂和研发,但尚未形成规模效应。目前,IFS 正在推进 12 个客户项目,其中 8 个计划在 2025 年完成,但大多数采用的都是成熟工艺节点,而非先进制程。

新任 CEO 与战略调整
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2025 年 3 月上任的新 CEO 陈略(Lieu Chen)拥有深厚的半导体背景。他曾任 Cadence Design Systems CEO 12 年,具有物理、核工程和商业管理等多项高等学历。上任后,他着手调整公司方向,聚焦高效业务领域,避免非必要支出。公司明确表示,不再对代工业务进行无限制投入,将以财务可行性为核心进行评估。

先进制程节点的关键性
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先进制程节点是英特尔代工业务的核心。目前 18A 节点(约等于 1.8nm 工艺)已进入风险生产阶段。该节点采用 RibbonFET 环绕栅晶体管和 PowerVia 背面供电技术,相比 Intel 3 工艺在单位功耗性能提升 15%,晶体管密度提升 30%。在相同 1.1V 电压下,18A 可实现 25% 更高频率,或在相同频率下降低 36% 功耗。Panther Lake 和 Clearwater Forest 等内部产品将率先搭载该工艺。性能测试显示,18A 节点评分为 2.53,略高于台积电 N2 的 2.27 与三星 SF2 的 2.19。但在 SRAM 密度方面,18A 仅为 31.8 Mb/mm²,低于台积电 N2 的 38 Mb/mm²,这可能限制其在 AI 和移动应用场景中的表现。

紧随其后的 14A 节点(1.4nm 级别)将引入第二代 PowerDirect 供电技术与 Turbo Cell 架构,预计可提升 15–20% 的单位能效,芯片密度提升 1.3 倍。该节点将使用 High-NA EUV 极紫外光刻技术。目前已有部分客户收到样品,量产时间预计为 2026 年。但根据公司 10-Q 报告,若未能获得足够外部订单或未达成关键里程碑,则该节点的研发与量产扩展可能被搁置。

激烈的市场竞争与策略响应
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全球芯片代工市场竞争激烈,台积电依然占据主导。其 N2 工艺将于 2025 年量产,采用纳米片晶体管,能效与性能表现与英特尔 18A 相近,并在 SRAM 密度与良率方面更具优势,已拿下苹果、英伟达、高通等大客户。三星的 SF2 工艺也采用 GAA 技术,在能效方面有所提升。尽管英特尔 18A 在部分测试中表现优异,但在生态、产能、客户信心等方面仍显不足。

为应对挑战,英特尔宣布裁员 15%(约 18,000 人),并推迟包括俄亥俄新厂在内的部分项目,以节省研发资金。第二季度消费级芯片营收下滑 3% 至 79 亿美元,但服务器芯片需求回升,数据中心业务取得增长。英特尔还通过 IFS Accelerator 计划扩展生态,与 EDA 和 IP 供应商合作,加速客户设计流程。

长远前景与产业影响
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若英特尔退出先进制程竞赛,可能影响美国本土半导体生产布局。尽管《CHIPS 与科学法案》为英特尔建厂提供补贴,但一旦代工业务收缩,台积电在亚利桑那的投资或将成为美国先进制程的主要来源。台积电计划在美建设三座工厂,涵盖 N3 与 N2 工艺,服务苹果、AMD 等客户。

尽管面临压力,英特尔仍将代工业务视为战略重点,目标在 2030 年成为全球第二大晶圆代工厂,现已获得超 150 亿美元的外部订单,包括微软、亚马逊等合作。公司还将依赖 EMIB 和 Foveros 等先进封装技术,在芯片集成方面实现差异化,弥补制程劣势。

短期内,公司预计第三季度营收将在 126 至 136 亿美元之间,显示出一定稳定性。但半导体产业变化迅速,英特尔需在持续创新与财务稳健之间找到平衡,方能在未来竞争中立于不败之地。

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